反応性イオンエッチングについて

http://mmc.la.coocan.jp/standard/term/jha06.htm
反応性イオンエッチング（RIE） 【はんのうせいいおんえっちんぐ ...
反応性イオンエッチングでは、化学的な反応作用と、プラズマで発生したイオンやラジカルが加工対象に衝突（スパッタ）する作用との両方により、マスクから垂直方向に選択的に進む。 異方性エッチングが結晶方位に対する異方性を示すのに対し...

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http://www.yitc.go.jp/Houkoku/data/H12/12-06.pdf
水晶基板のマイクロ加工技術に関する研究
イプ: PDF/Adobe Acrobat - HTMLバージョン水晶基板を反応性イオンエッチングで加工し，加工条件の検討を行った．反応性ガスにフッ素系ガスを用い，高周波出 ... 水晶基板に対し，反応性イオンエッチング装置を用いて. 加工した場合の加工条件および形状評価方法について検討. を行った...

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http://www.nanonet.go.jp/japanese/facility/report/f-069.pdf
ナノ材料の配列制御と加工技術の開発 Control of nanomaterial growth ...
イプ: PDF/Adobe Acrobat - HTMLバージョンリソグラフィー技術と反応性イオンエッチング技術を用いた、カーボンナノチューブ（CNT）の配列制. 御技術や加工技術の一例として、フォトリソグラフィー ... ターと反応性イオンエッチング技術を併用した極薄膜被膜 CNT の先端除去について報告する...

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http://wwwsoc.nii.ac.jp/vsj/JOURNAL/journal_old.html
第50巻第6号目次
酸化チタン光触媒薄膜の内部応力と光分解活性に関する研究 ------------宮村会実佳・金田健志・佐藤泰史・重里有三 −速 報− 第一原理計算に基づく反応性イオンエッチングプロセスの設 計 〜始めの一歩〜---------松本茂野・W. A. T. DINO...

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http://www.hitachi.co.jp/New/cnews/month/2006/11/1129a.html
ニュースリリース : 2006年11月29日 : HITACHI
なる微細化に対応していくには、イオンに加え、エッチングの加工精度に影響を及ぼす反応性ガスの分布を、正確かつ詳細に観測する技術が不可欠です。また、微細化に伴い、歩留まりに影響を与える異物粒子のサイズが小さくなるため、反応室内で...

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http://www.t.u-tokyo.ac.jp/edu/dissert/thesis/abst/14125.html
審 査 の 結 果 の 要 旨 論文提出者氏名 藤原 伸夫半導体産業は、大 ...
、高精度な微細パターンを形成するために、反応性プラズマエッチング技術において低圧力領域にてプラズマ生成が ... その結果、ECRプラズマによる多結晶Siの異方性エッチングにおいて、プラズマ中のイオン温度とイオンシース電圧が加工形...

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http://www.seikei.ac.jp/university/library/st/journal/V041/02/08.pdf
微細構造形成装置
イプ: PDF/Adobe Acrobat本設備「微細構造形成装置」は，一般的に反応性. イオンエッチング装置と呼ばれる装置であり，半導. 体素子，マイクロマシンや光電子素子を作製 ... 反応性イオンエッチング技術は既に実用化している. が，一般的に装置依存性があるため実際の使用に...

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http://www.ysc-net.co.jp/product/mems06.html
エッチング
イエッチング（Reactive Ion Etching:反応性イオンエッチング）［注）1］、イオンミリング（イオンビームを照射しエッチングする方法）やエッチング液にKOH（水酸化カリウム）、TMAH（水酸化テトラメチルアンモニウム）を用いたウエッ...

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http://mercury.numse.nagoya-u.ac.jp/f6/graduate2.html
卒業論文、修士論文
「InPのECRプラズマ反応性イオンエッチングと2次元フォトニック結晶作製への応用」. 野村 康治, 「分子線エピタキシー法によるGaAs ... 羽立 等, 「誘導結合型プラズマを用いた反応性イオンエッチングによるフォトニック結晶の作製と評価...

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http://www.coronasha.co.jp/np/detailindex.do;jsessionid=D85AB6D55CFDDB50FAC3CE420D3E0681?in=1&goods_id=2141
コロナ社｜目次
ッチングの概略 4.2 ウェットエッチング 4.3 ドライエッチング 4.3.1 エッチングの原理 4.3.2 エッチング機構 4.3.3 反応過程 4.4 ドライエッチング装置 4.4.1 円筒型プラズマエッチング 4.4.2 マイクロ波プラズマエッチング 4.4.3 反応性イオ...

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http://pdl.nict.go.jp/machines/d_2r.html
ドライ加工-RIE装置
ンエッチング（RIE）装置. RIE 装置. 【平行平板型RIE装置】. AsやSb化合物などのIII-V属化合物半導体のドライエッチング用。 使用可能ガスはCl 2, BCl 3, H 2, CH 4, Ar, O 2の6種。 塩素系ガスに対応した乾式除害装置、また塩素系・可燃...

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http://anzenmon.jp/page/200414
エッチング
チング（dry etching） 気体中で反応させ、蒸発させて除去する方法で、基板と反応しやすく、揮発性物質を作りやすいフッ素や塩素などのハロゲン化合物の導入により行う。ガスエッチング、プラズマエッチング、イオンエッチング、反応性イオ...

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http://www.istec.or.jp/SRL_homepage/Div_LTS-Device/Reactive-ion-etching.htm
本装置により、SiO2絶縁膜にコンタクトホールを反応性イオンエッチング ...
り、SiO2絶縁膜にコンタクトホールを反応性イオンエッチング法で形成している。 Contact holes between wirings are formed by reactive ion etching in this system. 反応性イオンエッチング装置. Reactive ion etching sy...

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http://www.chem.t.u-tokyo.ac.jp/appchem/labs/oshima/Semi/index.html
大学院講義「半導体表面化学1」のページ
チングの表面反応モデル、基本過程、Si, SiO2の物性値; 反応性イオンエッチング装置; エッチング過程の実時間モニタリング、クイズ; ECRドライエッチング; プラズマ反応エッチングのガス添加効果; ULSI用、GaAs光部品用エッチングガス...

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http://www.buyusa.gov/japan/ja/fuse1.html?exp_cat=5040&exp_pid=285
提携先募集企業リスト - 反応性イオンプラズマ・エッチャー、, 表面 ...
7年以上にわたり、真空プラズマ・エッチング、プラズマ表面洗浄、プラズマ殺菌、表面エネルギー変更装置を製造しております。RIE(反応性イオン・エッチング)オプションも可能です。チャンバーの構成及びサイズをカスタマイズすることもできま...

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http://www2.nsknet.or.jp/~azuma/i/ic02.htm
international
0.8μの4Mbit DRAM の加工では，波長 0.436μ の g 線と呼ばれる光によるリソグラフイーと， 反応性イオン・エッチングとの組み合わせが主流。 波長 0.35 μのエキシ・マー・レーザーによる光リソグラフィーでは 0.4〜0.5μの寸法の加工が可能...

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http://www.ulvac.co.jp/products/aed/D010025.html
真空技術と次世代発想のアルバック（ULVAC)：イオンビームエッチング ...
ムエッチングシステム IBE-2000BE. 本装置はECRバケット型イオン源を搭載した精密加工実験用のエッチング装置です。 対応基板は最高2インチ、バッチ当り1枚の処理が ... ECRイオン源を用いているので酸素や反応性ガスを用いることができます...

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http://annex.jsap.or.jp/hokkaido/yokousyuu39th/C-10.pdf
反応性イオンビームエッチングを用いて作製した
イプ: PDF/Adobe Acrobat - HTMLバージョン反応性イオンビームエッチングを用いて作製した. GaN 加工基板上への AlGaN/GaN ヘテロ構造選択成長. Selective Growth of AlGaN/GaN Heterostructure on the. Patterned Substrate Fabricated by Reactive Ion Beam Etchin...

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http://www.tomoeshokai.co.jp/tec_info/wording/semicon/jap06.html
半導体用語 - 巴商会
プラズマを利用したドライエッチング装置で、ウェーハをエッチング室内に設置された電極上に置いてエッチングする装置。ウェーハは中性活性種と反応性ガスイオンの相乗効果でエッチングされる...

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http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2007_04/jspf2007_04-319.pdf
2．プラズマエッチング装置技術開発の経緯，課題と展望
イプ: PDF/Adobe Acrobat特に反応性イオンエッチング（Reactive Ion. Etching: RIE）が開発されてからは，リソグラフィとともに. 半導体デバイスの高集積化を牽引し，半導体デバイスの隆. 盛とともに発展した基盤技術である．デバイスの高集...

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http://lib.nagaokaut.ac.jp/drdb/h06/z0048.html
z0048.html
E法は、電子サイクロトロン共鳴プラズマを用いた堆積技術と反応性イオンエッチング技術を利用し、被加工層上にSiO2からなるV字状の溝型エッチング・マスクを形成する方法であり、Ta、Siおよびレジスト層にディープ・サブミクロン幅の溝パターン...

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http://www.kq-ec.net/iac/_nanoscience/equipment02.htm
支援機器リスト 2/3 | 北九州産業学術推進機構[FAIS] | 九州地区ナノ ...
用基板ホルダー基板ホルダー回転機能チャンバー内防着板逆スパッタ機能, Al膜, Al-Si膜の堆積 AlxOy, AlxNy膜の堆積（反応性スパッタ）. 10, A C, リアクティブイオンエッチャー, 【samco：RIE-10NR】 Si系薄膜の反応性イオンエッチング...

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http://bookweb.kinokuniya.co.jp/htm/4526020745.html
電子・イオンビームハンドブック: 紀伊國屋書店BookWeb
イオンビームの照射効果 10 電子ビーム溶接 11 電子ビーム加工および記録 12 電子ビーム励起レーザ 13 電子・イオンビーム露光 14 電子・イオンビーム重合・分解 15 プラズマエッチング、反応性イオンエッチン...

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http://www.metro-u.ac.jp/gakui/04gakui/613%20%20k_ron_yo.pdf
氏 名 角田 陽 学 位 の 種 類 博士（工学） 学 位 記 番 号 工博第 ...
イプ: PDF/Adobe Acrobat - HTMLバージョンなお，対象とするプロセスには除去・付加両方が含まれ，除去加工としては反応性. イオンエッチングを対象とした． ... 第2章では反応性イオンエッチングによる表面創成機構の実験的解明結果を示し. ている．具体的には，加工条件としての気体分子...

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http://pioneer.jp/crdl/rd/pdf/16-2-1.pdf
ドライエッチングプロセスによるナノパターン形状制御
イプ: PDF/Adobe Acrobat - HTMLバージョンラズマ反応性イオンエッチング (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching : ICP-RIE) 装置を. 用いたナノパターン形状制御技術 ... キーワード : 光ディスク , マスタリング , 反応性イオンエッチング , 電子ビーム記録装置. 1. まえが...

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http://www.ryutu.inpit.go.jp/pldb/html/HTML.L/2005/007/L2005007165.html
特許流通データベース／ライセンス情報表示
反応性イオンエッチング（RIE）装置、エッチングガス. 目的, 超微細パターン下のSiO↓2膜をRIE方式により精度良くエッチングでき、エッチング後のレジスト表面の平坦性を高めることの可能な超微細レジストパターン下のSiO↓2...

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http://www.lib.shizuoka.ac.jp/gakui/gdea/gdea085.htm
工博乙第85号：田原傑：ULSI配線微細加工プロセスにおける加工形状制御 ...
ら、低圧高密度プラズマエッチングでは従来の反応性イオンエッチングでは見られないパターンに依存した加工形状と半導体素子への電気的損傷が発生することがわかってきた。すなわち、高アスペクト比(パターンの高さと幅の比)をエッチングする...

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http://www.fctec.jp/professional/2006/09/dry_etching.html
ドライエッチング(Dry Etching) (エンジニアのための用語集 ...
チング(どらいえっちんぐ)とは、反応性の気体(エッチングガス)やイオン、ラジカルによって材料をエッチングする方法である。 主に化学的な反応によるエッチングを指し、反応による生成物は気体である場合が多い。特徴としては、後工程とし...

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http://ir.library.tohoku.ac.jp/re/handle/10097/10511
TOUR(TOhoku University Repository): Item 10097/10511
, 超微細半導体集積回路製造用反応性イオンエッチングに関する研究. 著者名:, 佐藤 政明. 発行日:, 2006-12-15T02:47:51Z. 各資料種別:, 博士学位論文の要旨及び審査結果の要旨. 言語:, ja. 公開フラグ:, 学...

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http://www.toshiba.co.jp/tech/review/2004/08/59_08pdf/a06.pdf
次世代微細加工技術
イプ: PDF/Adobe Acrobatが高く，しかも被エッチング膜と反応して蒸気圧の高い反応. 生成物を作る元素を含むガスプラズマが用いられる。これ. は反応性イオンエッチング（RIE：Reactive Ion Etching）と呼. ばれ，LSIの高速化，高集積化のための必要不可欠な技術...

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http://www.tonio.or.jp/joho/tonionews/laboratory/bn17.html
TONIO news 研究室紹介
ーが取り組んでいる研究テーマのひとつが「難加工材用反応性イオンエッチング装置の開発」である。もともとは富山県立大学、富山県工業技術 ... それをいち早く可能にしたのが、立山科学グループが開発した反応性イオンエッチング装置である...

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http://www.material.tohoku.ac.jp/~kotaib/equip.html
新田研究室 :: 実験装置など
子の集積化から微細加工が要求されるようになり、ドライエッチングを行う必要が出てきました。そこで、基盤素材と反応性のあるガスを用いることで物理衝撃に伴う化学反応によって微細加工エッチングを行うリアクティブイオンエッチングが注目...

http://blog.livedoor.jp/trans_tech/archives/50602698.html
sensitivity

シリコン、ゲルマニウム、スズのうちの少なくとも１種類を有する重合体と、重合体の骨格にグラフトさせた保護基を含む組成物は、レジストとして有用であり、像形成する放射に感度を有するとともに、強化された耐反応性イオン・エッチング性を示す。 ...

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http://www24.atwiki.jp/okuyamalab/pages/10.html
実験設備

反応性イオンエッチング(RIE)装置ALCVD装置? 強誘電体評価装置? 半導体パラメータアナライザ・インピーダンスアナライザ? ネットワークアナライザ? 電気特性評価装置? DLTS用真空プローバ? X線回折装置ラマン分光装置? フーリエ変換赤外分光光度計? ...

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