<フォトマスクの知識>
2007/09/19 日記<フォトマスク>
フォトマスク
フォトマスク(Photo Mask) 半導体素子製造過程で用いる原板。ガラス基盤上に回路パターンが描画されて
おり主に光によって、半導体ウェハーに転写する。
概要
フォトマスクに使う基盤は通常、石英ガラスが使用され、その上にクロムでパターンが作られる。
フォトマスクは製造しようとする素子の各層毎に作られる。
製造には電子ビーム露光装置などが用いられる。半導体製造工程ではステッパーによりウェハー上を移動しながら露光され
複数個の素子のパターンが転写される。
露光は1:1サイズであったが集積度の向上により、4〜5倍のサイズで作られたマスクを縮小露光することが多くなった。量産工程で用いられるマスクのより正しい用語はレチクルである。
主なメーカー
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◆フォトマスクについてピックアップ おり主に光によって、半導体ウェハーに転写する。概要 フォトマスクに使う基盤は通常、石英ガラスが使用され、その上にクロムでパターンが作られる。 フォトマスクは製造しようとする素子の各層毎に作られる。 製造には電子ビーム露光装置などが用いられる。半導体製造工程ではステッパーによりウェハー上を移動しながら露光され 露光は1:1サイズであったが集積度の向上により、4... |